簡要描述:化工研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面
產(chǎn)品型號:
所屬分類:化工級研磨分散機
更新時間:2024-08-27
化工研磨分散機,高剪切研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過研磨分散機定、轉齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果
化工研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機比普通的臥式研磨分散機的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
研磨分散機設備選型表
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 700 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN50/DN50 |
GMD 2000/20 | 20,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD 2000/50 | 80,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。
3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型