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化工研磨分散機

化工研磨分散機

簡要描述:化工研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面

產(chǎn)品型號:

所屬分類:化工級研磨分散機

更新時間:2024-08-27

詳細說明:

化工研磨分散機,高剪切研磨分散機是由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過研磨分散機定、轉齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果 
                          


化工研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GMD2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


三級錯齒結構的研磨轉子,配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機比普通的臥式研磨分散機的速度達到3倍以上,zui小的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。 
                  

 
研磨分散機設備選型表

 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

GMD 2000/10

8,000

4,200

23

22

DN50/DN50

GMD 2000/20

20,000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

40,000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD 2000/50

80,000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數(shù),以便選型



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